RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 7, страницы 922–926 (Mi phts5456)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Электрические и оптические свойства нерелаксированных гетероэпитаксиальных структур InAs$_{1-x}$Sb$_{x}$

Р. Р. Гусейновa, В. А. Танрывердиевa, G. L. Belenkyb, G. Kipshidzeb, Е. Н. Алиеваa, Х. В. Алигулиеваa, Э. Г. Ализадеa, Х. Н. Ахмедоваa, Н. А. Абдуллаевa, Н. Т. Мамедовa, В. Н. Зверевc

a Институт физики НАН Азербайджана, Баку, Азербайджан
b Stony Brook University, USA
c Институт физики твердого тела Российской академии наук, г. Черноголовка Московской обл.

Аннотация: Исследованы электрические и гальваномагнитные свойства нерелаксированных гетероэпитаксиальных структур InAs$_{1-x}$Sb$_{x}$ ($x$ = 0.43 и 0.38) в широком интервале температур 5–300 K и магнитных полей до 8 Тл. Из термоактивационной зависимости электропроводности оценена ширина запрещенной зоны состава InAs$_{0.57}$Sb$_{0.43}$, она равна 120 мэВ. Определенные из эффекта Холла концентрации электронов в InAs$_{1-x}$Sb$_{x}$ (6 $\cdot$ 10$^{16}$ см$^{-3}$ для InAs$_{0.62}$Sb$_{0.38}$ и 5 $\cdot$ 10$^{16}$ см$^{-3}$ для InAs$_{0.57}$Sb$_{0.43}$) хорошо согласуются с концентрацией электронов, вычисленной из осцилляций Шубникова–де Гааза. Также проведены спектральные эллипсометрические исследования нерелаксированных гетероэпитаксиальных структур InAs$_{1-x}$Sb$_{x}$ ($x$ = 0.43 и 0.38) в области энергий фотонов 1–6 эВ. Определены спектральные зависимости мнимой и действительной частей диэлектрической проницаемости. Вычислены и приведены дисперсионные зависимости коэффициентов преломления и экстинкции.

Ключевые слова: гетероэпитаксиальные структуры, удельное сопротивление, эффект Холла, осцилляции Шубникова–де Гааза, спектральная эллипсометрия, диэлектрическая функция.

Поступила в редакцию: 10.12.2018
Исправленный вариант: 18.12.2018
Принята в печать: 18.12.2018

DOI: 10.21883/FTP.2019.07.47868.9044


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2019, 53:7, 906–910

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024