RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 6, страницы 799–804 (Mi phts5486)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Электронные свойства полупроводников

Исследование энергетического спектра кристаллов Si : Mg методом DLTS

Н. А. Ярыкинa, В. Б. Шуманb, Л. М. Порцельb, А. Н. Лодыгинb, Ю. А. Астровb, Н. В. Абросимовc, J. Weberd

a Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c Leibniz Institute for Crystal Growth, Berlin, Germany
d Technische Universität Dresden, Dresden, Germany

Аннотация: Электрически активные центры в легированных магнием кристаллах кремния $n$-типа изучались методом релаксационной спектроскопии глубоких уровней (DLTS). Магний вводился путем диффузии из металлической пленки на поверхности при 1100$^\circ$С. Обнаружено, что в спектре DLTS доминируют два уровня с близкой концентрацией $\sim$6 $\cdot$ 10$^{14}$ см$^{-3}$, что приблизительно соответствует концентрации межузельного магния (Mg$_{i}$), ожидаемой из условий диффузии и литературных данных по эффекту Холла. Зависимость скорости эмиссии электронов с этих уровней от напряженности электрического поля качественно соответствует эффекту Пула–Френкеля, указывая на донорную природу обоих уровней, хотя абсолютная величина эффекта отличается от теоретической. Энергии активации этих уровней, полученные путем экстраполяции скоростей эмиссии, измеренных при разных температурах, на нулевое поле, составляют 112 и 252 мэВ, что в пределах ошибки совпадает с энергиями основных состояний первого и второго донорных уровней Mg$_{i}$, определенных ранее по оптическому поглощению. Таким образом показано, что при использовании высококачественного исходного материала и выбранного режима диффузии доминирующими центрами с уровнями в верхней половине запрещенной зоны являются межузельные атомы магния.

Поступила в редакцию: 25.12.2018
Исправленный вариант: 29.12.2018
Принята в печать: 29.12.2018

DOI: 10.21883/FTP.2019.06.47732.9054


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2019, 53:6, 789–794

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024