RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 12, страницы 1535–1538 (Mi phts5674)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Электрические свойства тонких пленок оксида индия, полученных методом плазменно-термического испарения

А. С. Ильинa, А. Н. Мацукатоваa, П. А. Форшabc, Yu. Vygranenkod

a Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
b Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г. Москва
c Московский физико-технический институт (факультет нано-, био-, информационных и когнитивных технологий), Долгопрудный, Россия
d CTS-UNINOVA, Quinta da Torre, Caparica, Portugal

Аннотация: Исследованы структура и электрические свойства прозрачных тонких пленок оксида индия, полученных методом плазменно-термического испарения при различных температурах подложки. Определено, что пленки имеют зернистую структуру. Увеличение температуры подложки приводит к значительному росту проводимости пленок и к уменьшению времени релаксации фотопроводимости. Предложено объяснение влияния температуры подожки на наблюдаемые изменения электрических и фотоэлектрических свойств исследованных пленок оксида индия.

Поступила в редакцию: 28.02.2018
Принята в печать: 19.03.2018

DOI: 10.21883/FTP.2018.12.46771.8855


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:12, 1638–1641

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024