RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 10, страницы 1244–1249 (Mi phts5722)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Рост наноструктур в системе Ga(In)AsP–GaAs в квазиравновесных условиях

Л. Б. Карлинаa, А. С. Власовa, И. П. Сошниковabc, И. П. Смирноваa, Б. Я. Берa, А. Б. Смирновa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c Институт аналитического приборостроения РАН, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Впервые рассмотрено формирование наноструктур на поверхности GaAs в квазиравновесных условиях в квазизамкнутом объеме из насыщенных паров фосфора и индия в присутствии Au-катализатора, при росте по механизму “пар–жидкость–кристалл”. Исследовалось влияние температуры процесса и размера Au-капель на морфологию и состав полученных наноструктур. Приведены экспериментальные данные по образованию в данных условиях нанокристаллов Ga(In)AsP на подложках GaAs различной ориентации. Установлено, что температурным интервалом роста наноструктур при использовании данного метода является диапазон 540–640$^\circ$C при размере капель от 30 до 120 нм. Показано, что размер капель катализатора существенно влияет на морфологию и скорость роста полученных наноструктур, тогда как их состав слабо зависит как от размера капель, так и от ориентации подложки.

Поступила в редакцию: 19.03.2018
Принята в печать: 28.03.2018

DOI: 10.21883/FTP.2018.10.46468.8866


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:10, 1363–1368

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024