RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 10, страницы 1351–1356 (Mi phts6017)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Взаимодиффузия и фазообразование в тонкопленочной системе Fe–TiO$_{2}$

Н. Н. Афонинa, В. А. Логачеваb

a Воронежский государственный педагогический университет
b Воронежский государственный университет

Аннотация: Методами рентгенофазового анализа, вторично-ионной масс-спектрометрии, атомно-силовой микроскопии и математического моделирования исследовано взаимодействие магнетронным способом распыленного металлического железа с пленками оксида титана в процессе изотермического вакуумного отжига. Предложен механизм формирования сложных оксидов на границах зерен, основанный на реакционной диффузии металла Fe в оксид титана. Разработана количественная модель реакционной взаимодиффузии в двухслойных поликристаллических пленочных системах металл-оксид с ограниченной растворимостью компонентов. Численным анализом экспериментальных концентрационных распределений металлов в пленочной системе Fe–TiO$_{2}$ определены значения индивидуальных коэффициентов диффузии: железа 8.0 $\cdot$ 10$^{-13}$ см$^{2}$/с и титана 3.0 $\cdot$ 10$^{-15}$ см$^{2}$/с в условиях вакуумного отжига при 1073 K.

Поступила в редакцию: 30.01.2017
Принята в печать: 08.02.2017

DOI: 10.21883/FTP.2017.10.45012.8531


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:10, 1300–1305

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024