RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 9, страницы 1235–1242 (Mi phts6044)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Прыжковая проводимость и диэлектрическая релаксация в барьерах Шоттки на основе GaN

Н. И. Бочкареваa, В. В. Вороненковa, Р. И. Горбуновa, М. В. Виркоb, В. С. Коготковb, А. А. Леонидовb, П. Н. Воронцов-Вельяминовc, И. А. Шереметd, Ю. Г. Шретерa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
c Санкт-Петербургский государственный университет
d Финансовая академия при Правительстве РФ, г. Москва

Аннотация: Представлены результаты исследования зависимостей тока и емкости от прямого смещения диодов Шоттки Au/$n$-GaN, а также спектров подзонного оптического поглощения и дефектной фотолюминесценции объемных кристаллов и тонких слоев $n$-GaN. Показано, что туннелирование с участием дефектов является доминирующим механизмом транспорта при прямых смещениях контактов Шоттки на $n$-GaN. Зависимости тока и емкости от прямого смещения отражают энергетический спектр дефектов в запрещенной зоне $n$-GaN: рост с энергией плотности глубоких состояний, ответственных за желтую фотолюминесценцию в GaN, и резкий экспоненциальный хвост состояний с урбаховской энергией $E_{\operatorname{U}}$ = 50 мэВ вблизи края зоны проводимости. Уменьшение частоты перескоков электронов вблизи интерфейса Au/$n$-GaN приводит к широкому распределению локальных времен диэлектрической релаксации и изменению распределения электрического поля в области пространственного заряда при прямых смещениях.

Поступила в редакцию: 24.01.2017
Принята в печать: 09.02.2017

DOI: 10.21883/FTP.2017.09.44888.8528


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:9, 1186–1193

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024