RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 6, страницы 763–765 (Mi phts6131)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

XV Международная конференция ''Термоэлектрики и их применения-2016'', Санкт-Петербург, 15-16 ноября 2016 г.

Морфология межслоевой поверхности и микро-рамановские спектры в слоистых пленках топологических изоляторов на основе теллурида висмута

Л. Н. Лукьяноваa, А. Ю. Бибикb, В. А. Асеевb, О. А. Усовa, И. В. Макаренкоa, В. Н. Петровa, Н. В. Никоноровb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики

Аннотация: В тонких слоистых пленках $n$-Bi$_{2}$Te$_{3}$ и твердых растворов на основе Bi$_{2}$Te$_{3}$ исследованы резонансные микро-рамановские спектры и морфология межслоевой ван-дер-ваальсовой поверхности. Установлено влияние состава, толщины, морфологии поверхности и метода получения пленок на относительную интенсивность рамановских фононов, чувствительных к поверхностным топологическим состояниям фермионов Дирака.

Поступила в редакцию: 12.12.2016
Принята в печать: 19.12.2016

DOI: 10.21883/FTP.2017.06.44553.13


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:6, 729–731

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024