RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 5, страницы 651–658 (Mi phts6161)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Фотоэлектрические характеристики структур карбид кремния–кремний, выращенных методом замещения атомов в кристаллической решетке кремния

А. С. Гращенкоa, Н. А. Феоктистовab, А. В. Осиповac, Е. В. Калининаb, С. А. Кукушкинacd

a Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
d Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого

Аннотация: Представлены данные экспериментальных исследований фотоэлектрических характеристик структур кремний-карбид кремния, выращенных методом замещения атомов на подложках кремния ориентаций (100) и (111). Установлено, что максимальная эффективность преобразования солнечного света для гетероперехода кремний–карбид кремния (карбид кремния–кремний) составила 5.4%. С использованием теории образования дилатационных диполей при синтезе методом замещения атомов объяснен механизм формирования электрического барьера на границе раздела кремний–карбид кремния.

Поступила в редакцию: 22.11.2016
Принята в печать: 28.11.2016

DOI: 10.21883/FTP.2017.05.44423.8458


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:5, 621–627

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024