Аннотация:
Рассмотрено влияние неодномерных эффектов, обусловленных растеканием тока управления в базовом слое, на величину отпирающего тока управления тиристоров на основе 4$H$-SiC. Показано, что реализующийся в 4$H$-SiC тиристорах новый механизм переключения приводит к зависимости отпирающего тока управления от параметров тиристора, качественно отличающейся от соответствующей зависимости в традиционных кремниевых тиристорах.
Поступила в редакцию: 24.05.2016 Принята в печать: 14.06.2016