RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 1, страницы 5–7 (Mi phts6248)

Эта публикация цитируется в 13 статьях

Неэлектронные свойства полупроводников (атомная структура, диффузия)

Диффузия межузельного магния в бездислокационном кремнии

В. Б. Шуман, А. А. Лаврентьев, Ю. А. Астров, А. Н. Лодыгин, Л. М. Порцель

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Исследовалась диффузия примеси магния в пластины монокристаллического бездислокационного дырочного кремния в диапазоне температур $T$ = 600–800$^\circ$C. Источником диффузии служил слой, имплантированный магнием с энергией ионов 150 кэВ при дозах 5 $\cdot$10$^{14}$ и 2 $\cdot$ 10$^{15}$ см$^{-2}$. Коэффициент диффузии межузельных донорных центров магния $D_{i}$ при некоторой заданной $T$ определялся путем измерения глубины $p$$n$-перехода, который формировался в образцах, прошедших термообработку в течение времени $t$. В результате исследований впервые определена зависимость $D_{i}(T)$. Данные свидетельствуют, что диффузия осуществляется преимущественно по межузельному механизму.

Поступила в редакцию: 10.05.2016
Принята в печать: 18.05.2016

DOI: 10.21883/FTP.2017.01.43986.8313


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:1, 1–3

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024