RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 12, страницы 1599–1604 (Mi phts6277)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

XX Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'', Нижний Новгород, 14-18 марта 2016 г.

Теоретические и экспериментальные исследования вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик HEMT структур и полевых транзисторов

Е. А. Тарасоваa, Е. С. Оболенскаяa, A. B. Ханановаa, С. В. Оболенскийa, В. Е. Земляковb, В. И. Егоркинb, А. В. Неженцевa, А. В. Сахаровc, А. Ф. Цацульниковc, В. В. Лундинc, Е. Е. Заваринc, Г. В. Медведевd

a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Национальный исследовательский университет "МИЭТ"
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
d ОАО Научно-производственное предприятие "Салют", Нижний Новгород, Россия

Аннотация: Проведены исследования чувствительности параметров классических $n^{+}/n^{-}$ GaAs и AlGaN/GaN структур с двумерным электронным газом (НЕМТ) и полевых транзисторов на их основе к $\gamma$-нейтронному воздействию. Определены уровни их радиационной стойкости. Развит метод экспериментального исследования структур на основе дифференциального анализа вольт-фарадных характеристик, позволяющий определять слои структуры, в которых накапливаются радиационные дефекты. Впервые предложена методика, позволяющая учесть изменение площади обкладок измеряемой емкости барьерного контакта, связанной с возникновением кластеров радиационных дефектов, формирующих диэлектрические включения в слое двумерного электронного газа.

Поступила в редакцию: 27.04.2016
Принята в печать: 10.05.2016


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:12, 1574–1578

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024