RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 12, страницы 1713–1719 (Mi phts6299)

Эта публикация цитируется в 9 статьях

XX Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'', Нижний Новгород, 14-18 марта 2016 г.

Гигантская отрицательная фотопроводимость пленок PbSnTe : In с краем чувствительности вблизи 30 мкм

А. Н. Акимовa, А. Э. Климовa, С. В. Морозовbc, С. П. Супрунa, В. С. Эповa, А. В. Иконниковbc, М. А. Фадеевbc, В. В. Румянцевcb

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
c Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского

Аннотация: Представлены экспериментальные результаты исследований динамики фотопроводимости пленок PbSnTe : In с высоким содержанием SnTe и с соответствующим краем фундаментального поглощения вблизи 30 мкм при гелиевых температурах. Рассмотрены возможные причины гигантской (выше 2 порядков) отрицательной фотопроводимости образцов.

Поступила в редакцию: 27.04.2016
Принята в печать: 10.05.2016


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:12, 1684–1690

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024