Аннотация:
Приведены данные по росту и исследованию свойств наноструктур типа “вставка GaAs, внедренная в AlGaAs нитевидный нанокристалл”, выращенных на поверхности Si(111) методом молекулярно-пучковой эпитаксии с использованием золота в качестве катализатора. Показано, что, варьируя условия эпитаксиального роста, можно получать квантово-размерные структуры типа квантовой точки, излучающие в широком интервале длин волн как для активной, так и барьерной областей. Предлагаемая технология открывает новые возможности по интеграции прямозонных соединений А$^{\mathrm{III}}$В$^{\mathrm{V}}$ и кремния.
Поступила в редакцию: 27.04.2016 Принята в печать: 10.05.2016