RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 11, страницы 1441–1444 (Mi phts6303)

Эта публикация цитируется в 15 статьях

XX Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'', Нижний Новгород, 14-18 марта 2016 г.

Гибридные нитевидные нанокристаллы AlGaAs/GaAs/ AlGaAs с квантовой точкой, полученные методом молекулярно-пучковой эпитаксии на поверхности кремния

Г. Э. Цырлинabc, И. В. Штромadb, Р. Р. Резникae, Ю. Б. Самсоненкоab, А. И. Хребтовa, А. Д. Буравлевabd, И. П. Сошниковabfd

a Санкт-Петербургский академический университет Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
b Институт аналитического приборостроения РАН, г. Санкт-Петербург
c Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
d Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
e Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
f Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)

Аннотация: Приведены данные по росту и исследованию свойств наноструктур типа “вставка GaAs, внедренная в AlGaAs нитевидный нанокристалл”, выращенных на поверхности Si(111) методом молекулярно-пучковой эпитаксии с использованием золота в качестве катализатора. Показано, что, варьируя условия эпитаксиального роста, можно получать квантово-размерные структуры типа квантовой точки, излучающие в широком интервале длин волн как для активной, так и барьерной областей. Предлагаемая технология открывает новые возможности по интеграции прямозонных соединений А$^{\mathrm{III}}$В$^{\mathrm{V}}$ и кремния.

Поступила в редакцию: 27.04.2016
Принята в печать: 10.05.2016


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:11, 1421–1424

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024