RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 11, страницы 1561–1564 (Mi phts6325)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

XX Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'', Нижний Новгород, 14-18 марта 2016 г.

Исследование поперечного скола структур методом комбинационного рассеяния света

С. М. Планкинаa, О. В. Вихроваb, Ю. А. Даниловa, Б. Н. Звонковb, Н. Ю. Конноваa, А. В. Неждановa, И. Ю. Пашенькинa

a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, г. Нижний Новгород

Аннотация: Методом сканирующей конфокальной спектроскопии комбинационного рассеяния света исследована кристаллическая структура GaAs, облученного ионами Mn$^{+}$ с последующим импульсным лазерным отжигом. Сканирование поперечного скола образцов показало, что в результате лазерного отжига она полностью восстанавливается на всю глубину имплантации. Обнаружено рассеяние на связанной фонон-плазмонной моде, свидетельствующее об электрической активации примеси при дозах марганца выше 1 $\cdot$ 10$^{16}$ см$^{-2}$. На примере данных исследований продемонстрированы возможности метода сканирующей конфокальной спектроскопии комбинационного рассеяния света при исследовании поперечного скола структур, а на тестовом образце c $\delta$-слоем углерода установлено, что латеральное разрешение метода составляет 300 нм.

Поступила в редакцию: 27.04.2016
Принята в печать: 10.05.2016


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:11, 1539–1542

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024