RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 8, страницы 1075–1076 (Mi phts6389)

Микро- и нанокристаллические, пористые, композитные полупроводники

Влияние одноосной деформации на вольт-амперную характеристику $p$-Ge/$n$-GaAs гетероструктуры

М. М. Гаджиалиев, З. Ш. Пирмагомедов, Т. Н. Эфендиева

Институт физики им. Х. И. Амирханова ДНЦ РАН, Махачкала, Россия

Аннотация: Исследовано влияние одноосной деформации с силой до 6 кг/см$^{2}$ на вольт-амперную характеристику $p$-Ge/$n$-GaAs гетероструктуры при 300 и 77 K.
Найдено увеличение с давлением как прямого, так и обратного тока, причем изменение прямого тока на порядок больше, чем обратного. Исследована деформация и в зависимости от кристаллографических направлений, обнаружено, что при направлении сжатия, параллельном $\langle$111$\rangle$, эффект максимален. Результат может быть использован при создании датчиков одноосной деформации.

Поступила в редакцию: 28.12.2015
Принята в печать: 01.04.2016


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:8, 1054–1055

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024