RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 2, страницы 245–249 (Mi phts6546)

Эта публикация цитируется в 23 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Оптимизация параметров HEMT-гетероструктур GaN/AlN/ AlGaN для СВЧ транзисторов с помощью численного моделирования

В. Г. Тихомировab, В. Е. Земляковbc, В. В. Волковb, Я. М. Парнесb, В. Н. Вьюгиновb, В. В. Лундинde, А. В. Сахаровde, Е. Е. Заваринed, А. Ф. Цацульниковed, Н. А. Черкашинf, М. Н. Мизеровd, В. М. Устиновe

a Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
b ЗАО "Светлана-Электронприбор", г. Санкт-Петербург
c Национальный исследовательский университет "МИЭТ"
d Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур РАН, г. Санкт-Петербург
e Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
f CEMES-CNRS – Université de Toulouse, Toulouse, France

Аннотация: Проведены численное моделирование, а также расчетная и экспериментальная оптимизация полевых СВЧ транзисторов с высокой подвижностью электронов на основе гетероструктур GaN/AlN/AlGaN. Результаты выполненных исследований показали, что оптимальные значения толщин и составов слоев гетероструктур, позволяющих реализовать высокую мощность в СВЧ диапазоне, лежат в относительно узких пределах. Проведенные исследования показали возможность эффективного использования численного моделирования для разработки СВЧ HEMT с учетом основных физических явлений и особенностей реальных приборных конструкций.

Поступила в редакцию: 11.06.2015
Принята в печать: 17.06.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:2, 244–248

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024