RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 2, страницы 264–268 (Mi phts6550)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Особенности роста InN методом МПЭ с плазменной активацией азота при различных соотношениях потоков элементов III и V групп

Д. Н. Лобановab, А. В. Новиковab, Б. А. Андреевab, П. А. Бушуйкинa, П. А. Юнинa, Е. В. Скороходовa, Л. В. Красильниковаba

a Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
b Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского

Аннотация: Представлены результаты исследований влияния соотношения потоков элементов III и V групп на структурные и оптические свойства формируемой методом МПЭ ПА пленки InN. Было показано, что при соотношении потоков III/V $<$ 0.6 слой InN состоит из отдельно стоящих наноколонн. В диапазоне соотношений 0.6 $<$ III/V $<$ 0.9 рост InN становится двумерным, однако слой InN обладает нанопористой структурой. При переходе к металлобогащенным условиям роста (III/V $\sim$ 1.1) слой InN становится сплошным. Переход от трехмерного роста к двумерному сопровождается увеличением плотности прорастающих дислокаций. Это приводит к снижению интенсивности сигнала фотолюминесценции InN при комнатной температуре. Концентрация электронов в слоях InN составила $\sim$5 $\cdot$10$^{18}$ см$^{-3}$, что приводит к сдвигу максимума сигнала ФЛ в область длин волн 1.73–1.8 мкм и сдвигу края поглощения в область $\sim$1.65 мкм.

Поступила в редакцию: 28.05.2015
Принята в печать: 05.06.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:2, 261–265

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024