RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2024, том 58, выпуск 12, страницы 695–702 (Mi phts6823)

Физика полупроводниковых приборов

Влияние процедуры легирования железом CVD-ZnSe с помощью высокотемпературной диффузии на состав и пространственное распределение примесно-дефектных центров

В. П. Калинушкинa, О. В. Уваровa, А. А. Гладилинa, С. А. Мироновa, М. В. Поплавскийa, П. Д. Пупыревb, Е. М. Гаврищукc, Д. В. Савинc, Н. А. Тимофееваc

a Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, 119991 Москва, Россия
b Институт радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН, 111250 Москва, Россия
c Институт химии высокочистых веществ РАН им. Г. Г. Девятых, 603951 Нижний Новгород, Россия

Аннотация: Исследуется пространственное распределение примесно-дефектных центров в кристаллах CVD-ZnSe, образующееся после проведения процедуры легирования этих кристаллов железом с помощью высокотемпературного легирования. Эксперименты велись с помощью метода двухфотонной конфокальной микроскопии, позволяющего регистрировать люминесценцию в диапазоне 0.44–0.73 мкм с пространственным разрешением в несколько микрон. Показано, что в результате этой процедуры кристалл становится существенно неоднородным не только в зоне легирования. В нем образуются области размерами в сотни микрон, прилегающие ко всем его поверхностям с отличным от основного объема составом собственных точечных дефектов и их комплексов. Установлено, что размеры этих областей зависят от времени легирования. Сделаны предположения о природе комплексов собственных дефектов с остаточными примесями, образующихся во время легирования, и механизме образования указанных выше областей.

Ключевые слова: ZnSe : Fe; двухфотонная конфокальная микроскопия, примесно-дефектный состав, диффузия.

Поступила в редакцию: 07.05.2024
Исправленный вариант: 28.11.2024
Принята в печать: 05.12.2024

DOI: 10.61011/FTP.2024.12.59830.6864



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025