RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2022, том 56, выпуск 3, страницы 275–278 (Mi phts7009)

Неэлектронные свойства полупроводников (атомная структура, диффузия)

Высокотемпературная диффузия акцепторной примеси Ве в AlN

О. П. Казарова, С. С. Нагалюк, В. А. Солтамов, М. В. Музафарова, Е. Н. Мохов

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Исследована высокотемпературная диффузия акцепторной примеси бериллия (Be) в объeмный монокристаллический нитрид алюминия (AlN). Показано, что введение Be приводит к появлению зелeной люминесценции AlN, стабильной при комнатной температуре, наблюдаемой по всей толщине образца. Методом люминесцентного анализа показано, что наиболее эффективно процесс диффузии Be реализуется в температурном диапазоне от 1800 до 2100$^\circ$C и характеризуется чрезвычайно высокими коэффициентами диффузии $D$ = 10$^{-7}$ и 10$^{-6}$ см$^2$/с соответственно. Показано, что продолжительный процесс диффузии ($t\ge$ 1 ч) при температуре 2100$^\circ$C приводит к концентрационному тушению люминесценции приповерхностных слоeв AlN толщиной $\approx$ 80 мкм, что позволяет оценить концентрацию примеси бериллия в приповерхностном слое $\sim$ 10$^{19}$ см$^{-3}$.

Ключевые слова: нитрид алюминия, сублимационный метод роста, легирование, диффузия.

Поступила в редакцию: 08.11.2021
Исправленный вариант: 12.11.2021
Принята в печать: 12.11.2021

DOI: 10.21883/FTP.2022.03.52110.9763



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025