RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2022, том 56, выпуск 9, страницы 844–847 (Mi phts7112)

XXVI Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника" , Нижний Новгород, 14-17 марта 2022г.

Анализ нелинейных искажений D$p$HEMT структур на основе соединения GaAs/InGaAs с двусторонним дельта-легированием

Е. А. Тарасоваa, С. В. Хазановаa, О. Л. Голиковa, А. С. Пузановa, С. В. Оболенскийa, В. Е. Земляковb

a Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского, 603600 Нижний Новгород, Россия
b Национальный исследовательский университет "МИЭТ", 124498 Москва, Зеленоград, Россия

Аннотация: Проведены расчетно-экспериментальные исследования характеристик мощного AlGaAs/InGaAs/GaAs D$p$HEMT. При помощи самосогласованного численного решения уравнений Шредингера и Пуассона рассчитана зонная диаграмма исследуемого транзистора, получена концентрация электронов в канале. Экспериментально оценена подвижность электронов в канале транзистора, которая составила 9300 см$^2$$\cdot$с. На основе полученной проходной вольт-амперной характеристики транзистора рассчитаны параметры модельного дифференциального усилителя: малосигнальный коэффициент усиления и коэффициент нелинейных искажений 3-го порядка.

Ключевые слова: AlGaAs/InGaAs/GaAs D$p$HEMT, нелинейные искажения, спейсерные слои.

Поступила в редакцию: 30.06.2022
Исправленный вариант: 07.07.2022
Принята в печать: 07.07.2022

DOI: 10.21883/FTP.2022.09.53402.37



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025