RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2022, том 56, выпуск 10, страницы 1011–1015 (Mi phts7140)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Рост гексагонального нитрида бора (hBN) на подложках карбида кремния методом сублимации

Е. Н. Мохов, В. Ю. Давыдов, А. Н. Смирнов, С. С. Нагалюк

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Продемонстрирована возможность роста с использованием метода высокотемпературной сублимации из газовой фазы гексагонального нитрида бора (hBN) высокого структурного совершенства на подложках гексагонального карбида кремния (SiC). Полученные результаты указывают на перспективность использования данного метода для формирования в ходе одного технологического процесса высококачественных гетероструктур hBN/SiC большой площади, которые имеют высокий потенциал для приборных применений.

Ключевые слова: гексагональный нитрид бора, высокотемпературная сублимация из газовой фазы, рамановская спектроскопия, фотолюминесценция.

Поступила в редакцию: 15.09.2022
Исправленный вариант: 23.09.2022
Принята в печать: 26.09.2022

DOI: 10.21883/FTP.2022.10.53964.9961



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025