RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 3, страница 431 (Mi phts7249)

Статьи, опубликованные в английской версии журнала

Erratum to: “Growth of EuO/Si and EuO/SrO/Si heteroepitaxial structures by molecular-beam epitaxy”

P. E. Teterina, D. V. Averyanovab, Yu. G. Sadofyevac, O. E. Parfenova, I. A. Likhacheva, V. G. Storchaka

a National Research Centre "Kurchatov Institute", Moscow, 123182, Russia
b National Engineering Physics Institute "MEPhI", Moscow, 115409, Russia
c P. N. Lebedev Physical Institute, Russian Academy of Sciences, Moscow, 119991, Russia

Язык публикации: английский


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2015, 49:3, 419


© МИАН, 2025