RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Физика и техника полупроводников
// Архив
Физика и техника полупроводников,
2015
, том 49,
выпуск 3,
страница 431
(Mi phts7249)
Статьи, опубликованные в английской версии журнала
Erratum to: “Growth of EuO/Si and EuO/SrO/Si heteroepitaxial structures by molecular-beam epitaxy”
P. E. Teterin
a
,
D. V. Averyanov
ab
,
Yu. G. Sadofyev
ac
,
O. E. Parfenov
a
,
I. A. Likhachev
a
,
V. G. Storchak
a
a
National Research Centre "Kurchatov Institute", Moscow, 123182, Russia
b
National Engineering Physics Institute "MEPhI", Moscow, 115409, Russia
c
P. N. Lebedev Physical Institute, Russian Academy of Sciences, Moscow, 119991, Russia
Язык публикации:
английский
Полный текст:
PDF файл (92 kB)
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2015,
49
:3,
419
©
МИАН
, 2025