RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 5, страницы 612–616 (Mi phts7284)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Фотоэлектрические свойства гетеропереходов $n$-ITO/$p$-GaTe

В. Н. Катеринчук, З. Р. Кудринский, З. Д. Ковалюк

Институт проблем материаловедения им. И.Н. Францевича Национальной академии наук Украины (Черновицкое отделение), 58001 Черновцы, Украина

Аннотация: Исследованы фотоэлектрические свойства анизотипных гетеропереходов $n$-ITO/$p$-GaTe, изготовленных путем пульверизации спиртового раствора хлорида индия на нагретые подложки GaTe. Результаты исследований температурных зависимостей вольт-амперных характеристик полученных гетеропереходов позволили определить механизмы токопрохождения через барьер. Построены энергетические зонные диаграммы гетероперехода. Установлено, что гетеропереход $n$-ITO/$p$-GaTe обладает фоточувствительностью в диапазоне 0.35–0.73 мкм.

Поступила в редакцию: 12.08.2014
Принята в печать: 04.09.2014


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2015, 49:5, 600–603

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025