RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 9, страницы 1212–1216 (Mi phts7385)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Спектроскопия, взаимодействие с излучениями

Природа оранжевой (2 эВ) фотолюминесценции в пленках SiO$_2$, имплантированных большими дозами ионов Si$^+$

И. Е. Тысченко

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия

Аннотация: Изучены спектры фотолюминесценции и спектры возбуждения фотолюминесценции в пленках SiO$_2$, имплантированных большими дозами ионов Si$^+$ (3 ат%), в зависимости от температуры последующего отжига. Показано, что в спектрах доминируют две полосы фотолюминесценции с максимумом 2.7 и 2 эВ, соотношение интенсивностей которых с ростом температуры отжига изменяется в пользу первой. Обе полосы фотолюминесценции имеют основной максимум возбуждения с энергией 5.1 эВ. В спектре возбуждения полосы $\sim$ 2 эВ присутствуют также пики 3.8 и 4.6 эВ. Сделано заключение, что природа оранжевой полосы фотолюминесценции в имплантированных пленках SiO$_2$ обусловлена излучательными переходами между уровнями центров, связанных с дефицитом кислорода ($\equiv$ Si–Si $\equiv$ или = Si:), и уровнями немостикового кислорода ($\equiv$ Si–O$\bullet$).

Поступила в редакцию: 17.02.2015
Принята в печать: 25.02.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2015, 49:9, 1176–1180

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025