RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 12, страницы 1683–1688 (Mi phts7467)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Неэлектронные свойства полупроводников (атомная структура, диффузия)

Об оценках температуры плавления графеноподобных соединений

С. Ю. Давыдовab

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики, 197101 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Обсуждаются три подхода к определению температуры плавления, понимаемой как температура термической неустойчивости двумерной гексагональной структуры: 1) приближение Найи, Изири и Ишии; 2) критерий Линдеманна; 3) критерий Борна. Для количественных оценок используется метод связывающих орбиталей Харрисона. Рассмотрены графен, силицен, германен и 12 соединений A$_4$B$_4$ и A$_3$B$_5$. Показано, что критерии Линдеманна и Борна приводят к близким и более реальным результатам, чем приближение Найи, Изири и Ишии. Для грубой оценки “объемной” и “поверхностной” температур плавления предлагаются соответственно следующие выражения: $T_b\sim 10^4$ K/a$^2$ и $T_s\sim 2T_b/3$, где расстояние между ближайшими соседями $a$ задается в $\mathring{\mathrm{A}}$.

Поступила в редакцию: 16.04.2015
Принята в печать: 10.04.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2015, 49:12, 1634–1639

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025