RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 12, страницы 1700–1703 (Mi phts7470)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Спектроскопия, взаимодействие с излучениями

Температурные зависимости интенсивностей фотолюминесценции центров в кремнии, имплантированном ионами эрбия и кислорода

Н. А. Соболевa, К. Ф. Штельмахab, А. Е. Калядинa, Е. И. Шекa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский государственный политехнический университет, 195251 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Исследована низкотемпературная фотолюминесценция в кристаллах $n$-Cz–Si после последовательной имплантации ионов эрбия при повышенной температуре и ионов кислорода при комнатной температуре. В спектрах фотолюминесценции наблюдаются так называемые $X$- и $W$-центры, сформированные из собственных межузельных атомов кремния, $H$- и $P$-центры, содержащие атомы кислорода, и Er-центр, содержащий ионы Er$^{3+}$. Определены энергии возгорания и гашения фотолюминесценции для этих центров. Для $X$- и $H$-центров энергии определены впервые. В случае $P$- и Er-центров значения энергий практически совпадают с литературными данными. Для $W$-центров энергии гашения и возгорания интенсивности фотолюминесценции зависят от условий их образования.

Поступила в редакцию: 27.05.2015
Принята в печать: 05.06.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2015, 49:12, 1651–1654

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025