RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 2, страницы 190–195 (Mi phts7508)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Спектроскопия, взаимодействие с излучениями

Ударная ионизация экситонов в монокристаллическом кремнии и ее влияние на концентрацию экситонов и люминесценцию в области края фундаментального поглощения

А. М. Емельянов

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: При высоком уровне инжекции исследовано влияние ударной ионизации экситонов свободными носителями заряда на концентрацию экситонов в монокристаллическом кремнии ($c$-Si) при комнатной температуре. При достаточно больших концентрациях свободных электронов $(n)$ ударная ионизация экситонов доминирует над их термической ионизацией. При таких $n$ эффект обусловливает значительно меньшие, чем без его учета, концентрации экситонов $n_{\mathrm{ex}}(n)$, близкие к линейным, или линейные участки зависимостей $n_{\mathrm{ex}}(n)$ и зависимостей интенсивности краевой люминесценции $c$-Si от интенсивности ее возбуждения. Описанный метод вычислений $n_{\mathrm{ex}}$ может быть развит для других полупроводников и при других температурах.

Поступила в редакцию: 04.04.2013
Принята в печать: 21.05.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2014, 48:2, 178–183

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025