RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 2, страницы 220–224 (Mi phts7514)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Влияние фотооблучения и температуры на электрические и оптические свойства пленок In$_2$O$_3$, полученных автоволновым окислением

И. А. Тамбасовab, В. Г. Мягковab, А. А. Иваненкоa, Л. Е. Быковаa, Е. В. Ежиковаc, И. А. Максимовb, В. В. Ивановb

a Институт физики им. Л. В. Киренского СО РАН, 660036 Красноярск, Россия
b ОАО "Информационные спутниковые системы им. академика М. Ф. Решетнева", 662972 Железногорск, Россия
c Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М. Ф. Решетнева, 660037 Красноярск, Россия

Аннотация: Пленки оксида индия были синтезированы автоволновой реакцией окисления. Показано, что при фотооблучении происходит резкое уменьшение электрического сопротивления пленок, максимальное изменение которого составило 52% при комнатной температуре. Определены две скорости релаксации сопротивления пленок после прекращения облучения: 15 Ом/с первые 30 с и 7 Ом/с в остальное время. Результаты ИК спектроскопии пленок оксида индия показали, что фотооблучение приводит к уменьшению на 2.4% коэффициента пропускания на длине волны 6.3 мкм. После прекращения облучения наблюдалось постепенное увеличение коэффициента пропускания со скоростью 0.006%/с. Сделано предположение, что фотовосстановление является доминирующим механизмом, ответственным за изменения электрических и оптических свойств In$_2$O$_3$-пленок.

Поступила в редакцию: 12.03.2013
Принята в печать: 26.03.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2014, 48:2, 207–211

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025