Физика и техника полупроводников,
1987, том 21, выпуск 6,страницы 1095–1100(Mi phts753)
Дефектообразование в синтетическом алмазе при высокоэнергетичной
ионной имплантации
В. С. Вариченко, Е. Д. Воробьев, А. М. Зайцев, В. А. Лаптев, М. И. Самойлович, В. А. Скуратов, В. Ф. Стельмах
Аннотация:
Методами катодо- и фотолюминесценции исследованы
центры, обусловленные примесными и собственными дефектами,
введенными в синтетический алмаз имплантацией ионов углерода с энергией
82 МэВ. Наблюдаемое уширение спектральных линий, ослабление влияния
температуры на спектральные характеристики центров, особенности поведения этих
центров при отжиге объясняются, во-первых, наличием у синтетического алмаза
в отличие от природного метастабильной дефектной
структуры и, во-вторых, уменьшением электрон-фононного
взаимодействия в кристаллах, облученных ионами больших энергий.