RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 3, страницы 352–357 (Mi phts7537)

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Особенности электрофизических свойств гетероструктур InSb/AlInSb/AlSb с высокой концентрацией электронов в двумерном канале

Т. А. Комиссароваa, А. Н. Семеновa, Б. Я. Мельцерa, В. А. Соловьевa, P. Paturib, Д. Л. Федоровc, П. С. Копьевa, С. В. Ивановa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Wihuri Laboratory, Department of Physics and Astronomy, University of Turku, FIN-20014, Turku, Finland
c Балтийский государственный технический университет "Военмех" им. Д. Ф. Устинова, 190005 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Работа посвящена исследованию электрофизических свойств гетероструктур c квантовыми ямами (КЯ) InSb/AlInSb/AlSb с высокой концентрацией электронов. Обнаружена анизотропия концентрации и подвижности электронов, измеренных в слабом магнитном поле в кристаллографических направлениях $[1\bar10]$ и [110]. С помощью анализа осцилляций Шубникова–де Гааза показано, что проводимость по двумерному электронному каналу КЯ InSb/AlInSb не зависит от кристаллографического направления. Вместе с тем магнитополевые зависимости модуля коэффициента Холла и удельного сопротивления структур продемонстрировали сильную чувствительность к кристаллографическому направлению. Это позволило заключить, что анизотропия транспортных параметров электронов в структурах с КЯ, измеренных в слабом магнитном поле, связана с паразитной проводимостью по буферному слою Al$_{0.09}$In$_{0.91}$Sb, заметный вклад в которую дают два анизотропных эффекта: влияние кластеров металлического In, неоднородно распределенных по буферному слою, и проводимость по сильнодефектному приинтерфейсному слою, плотность протяженных дефектов в котором зависит от кристаллографического направления.

Поступила в редакцию: 17.07.2013
Принята в печать: 19.08.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2014, 48:3, 338–343

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025