П. Н. Крылов, Р. М. Закирова, И. В. Федотова, “Влияние ионно-лучевой обработки в процессе реактивного высокочастотного магнетронного распыления на макронапряжения ITO пленок”, Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 6,страницы 763

Эта публикация цитируется в 1 статье

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Влияние ионно-лучевой обработки в процессе реактивного высокочастотного магнетронного распыления на макронапряжения ITO пленок

П. Н. Крылов, Р. М. Закирова, И. В. Федотова

Удмуртский государственный университет, 426034 Ижевск, Россия

Аннотация: Прозрачные проводящие пленки оксида индия, легированного оловом, получены методом чередующихся процессов реактивного ВЧ магнетронного распыления и ионной обработки. Рентгенографически исследованы напряженные состояния ITO пленок. Показано влияние технологических режимов на изменение макронапряжений в пленках ITO.

Поступила в редакцию: 15.10.2013
Принята в печать: 21.10.2013