RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 6, страницы 774–780 (Mi phts7622)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Оценка качества эпитаксиальных слоев GaAs и их интерфейсов посредством анализа спектров экситонного поглощения

Н. Р. Григорьеваa, А. Ю. Егоровb, Д. А. Зайцевc, Е. В. Никитинаb, Р. П. Сейсянc

a Санкт-Петербургский государственный университет, 194034 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский академический университет — научно-образовательный центр нанотехнологий РАН (Академический университет), 194021 Санкт-Петербург, Россия
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Оптические экситонные спектры чувствительны даже к весьма незначительным изменениям свойств материала. Особенно информативны спектры такой квазичастицы как экситонный поляритон, хотя их спектроскопия и накладывает ограничения по температуре измерений и качеству материала. Параметры экситона, такие как резонансная частота $\omega_T$ и коэффициент затухания $\Gamma$, могут меняться под действием электрического поля, наличия дефектов, изменения химического состава пленки. Если свойства материала изменяются по толщине пленки, то и резонансная частота, и коэффициент затухания тоже изменяются вдоль пространственной координаты $z$. Исследовались нелегированные слои GaAs при $T$ = 1.7 K, выращенные эпитаксиально на подложке из GaAs. По спектрам экситонного края поглощения выполнены оценки глубин “мертвых” слоев, электрических полей и концентрации примесей.

Поступила в редакцию: 15.10.2013
Принята в печать: 01.11.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2014, 48:6, 754–759

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025