RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 7, страницы 951–962 (Mi phts7652)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Углеродные системы

Транспортные свойства эпитаксиального графена, сформированного на поверхности полупроводника

З. З. Алисултановabc, Р. П. Мейлановdc

a Институт физики им. Х. И. Амирханова ДНЦ РАН, 367003 Махачкала, Россия
b Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, 119991 Москва, Россия
c Дагестанский государственный университет, 367000 Махачкала, Россия
d Институт проблем геотермии Дагестанского НЦ РАН, 367030 Махачкала, Россия

Аннотация: Рассмотрены транспортные свойства эпитаксиального графена, сформированного на поверхности полупроводниковой подложки. Используется подход, основанный на модельном гамильтониане Андерсона в приближении Халдейна–Андерсона. Получено аналитическое выражение для плотности состояний эпитаксиального графена. Исследовано поведение плотности состояний эпитаксиального графена при различных значениях параметров задачи. Исследована вещественная часть динамической проводимости эпитаксиального графена, рассмотрены предельные значения проводимости, а также зависимости последней от химического потенциала и температуры. Показано, что вблизи краев щели полупроводника проводимость эпитаксиального графена меняется скачкообразно. Когда взаимодействие между графеном и подложкой равно нулю, статическая проводимость эпитаксиального графена принимает универсальное значение $2e^2/\pi\hbar$. Исследована термоэдс эпитаксиального графена и показано, что вблизи краев запрещенной щели полупроводника термоэдс аномально растет, что связано по аналогии с электронным топологическим переходом в металлах с появлением нового класса квазичастиц с сильно зависящим от энергии временем жизни (новый канал рассеяния). Рассмотренные фундаментальные вопросы имеют решающее значение при исследовании оптических, магнето-оптических, термоэлектрических и термомагнитных свойств эпитаксиального графена. Полученные результаты представляют большой интерес при рассмотрении эпитаксиального графена, как перспективного материала для сверхвысокочастотной техники.

Поступила в редакцию: 24.09.2013
Принята в печать: 15.10.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2014, 48:7, 924–934

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025