RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 4, страницы 538–545 (Mi phts7882)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Поведение Bi в решетке CdTe и эффект компенсации в CdTe : Bi

С. А. Колосов, В. С. Кривобок, Ю. В. Клевков, А. Ф. Адиятуллин

Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва

Аннотация: Кристаллы CdTe двух типов: легированные Bi с содержанием $\sim$ 10$^{18}$ см$^{-3}$ и кристаллы двойного легирования с концентрацией Bi $\sim$ 10$^{18}$ см$^{-3}$ и Cl с концентрацией $\sim$ 10$^{17}$ см$^{-3}$ были выращены вертикальным методом Бриджмена. На полученных кристаллах были исследованы температурная зависимость удельного сопротивления, фотопроводимость и низкотемпературная фотолюминесценция. Исследования показали, что легирование Bi (кристаллы первого типа) приводит к компенсации материала. Удельное сопротивление образцов CdTe : Bi при комнатной температуре в зависимости от уровня легирования варьируется в интервале 10$^5$–10$^9$ Ом $\cdot$ см. В слабо легированных образцах CdTe : Bi концентрация дырок определяется акцептором $E_v$ + 0.4 эВ, а в сильно легированных образцах CdTe : Bi – глубоким центром $E_v$ + 0.72 эВ. Двойное же легирование приводит к инверсии типа проводимости и понижению удельного сопротивления до $\sim$ 1 Ом $\cdot$ см. В сильно легированных кристаллах CdTe : Bi и в кристаллах двойного легирования обнаружен акцептор с нетипичной для CdTe энергией ионизации 36 мэВ.

Поступила в редакцию: 28.04.2012
Принята в печать: 21.05.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:4, 561–568

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025