RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 4, страницы 557–563 (Mi phts7885)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Использование поперечного акустоэлектрического эффекта для исследования заряжения поверхности кремния при адсорбции воды

В. Л. Громашевский, Н. П. Татьяненко, Б. А. Снопок

Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева НАН Украины, г. Киев

Аннотация: Адсорбция воды на поверхности кремния в слоистой структуре Si–LiNbO$_3$ с воздушным зазором изучена с помощью поперечного акустоэлектрического эффекта на поверхностных акустических волнах. Обобщенный анализ данных измерений поперечного акустоэлектрического эффекта позволил устанавливать начальный изгиб зон поверхности Si, его изменения в процессе газовых циклов и соответственно знак и кинетику заряжения Si при адсорбции H$_2$O. В зависимости от свойств дефектов на поверхности полупроводника наблюдался как донорный, так и акцепторный характер взаимодействия H$_2$O с Si. На образцах с термическим окислом имело место взаимодействие донорного типа, а на образцах с реальным окислом – оба типа взаимодействия. На основе принятой физической модели заряжения окисла под действием адсорбата предложен комплексный методический подход, позволяющий целенаправленно разрабатывать акустоэлектронные структуры для сенсорных применений.

Поступила в редакцию: 09.06.2012
Принята в печать: 21.06.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:4, 579–585

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025