RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 5, страницы 626–632 (Mi phts7898)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Эффект переключения проводимости в МДП структурах с диэлектриками на базе кремния, полученными методом низкочастотного плазмохимического осаждения

А. Е. Бердников, В. Н. Гусев, А. А. Мироненко, А. А. Попов, А. В. Перминов, А. С. Рудый, В. Д. Черномордик

Ярославский филиал Федерального государственного бюджетного учреждения науки Физико-технологического института РАН

Аннотация: Исследованы вольт-амперные характеристики МДП структур с диэлектриками на базе оксида кремния, полученных низкочастотным (55 кГц) плазмохимическим осаждением. Особенностью используемых диэлектриков были включения частиц других материалов с меньшей шириной запрещенной зоны. Установлено, что такие структуры обладают свойством биполярного переключения проводимости. Наилучшими характеристиками эффекта переключения проводимости обладали МДП структуры с многослойным диэлектриком, содержащим дополнительные слои нитрида кремния нанометровой толщины.

Поступила в редакцию: 25.06.2012
Принята в печать: 25.07.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:5, 641–646

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025