RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 6, страницы 797–801 (Mi phts7929)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Исследование фотоэлектрических свойств массивов нитевидных нанокристаллов GaAs : Be

А. Д. Буравлёвabc, Д. В. Безнасюкab, Е. П. Гильштейнa, M. Tchernychevad, A. De Luna Bugallod, L. Riguttid, L. Yue, Yu. Proskuryakovf, И. В. Штромb, М. А. Тимофееваb, Ю. Б. Самсоненкоabc, А. И. Хребтовa, Г. Э. Цырлинabc

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский академический университет — научно-образовательный центр нанотехнологий РАН (Академический университет)
c Институт аналитического приборостроения РАН, г. Санкт-Петербург
d Institut d’Electronique Fondamentale UMR CNRS 8622, University Paris Sud 11, 91405 Orsay Cedex, France
e Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces (LPICM), Ecole Polytechnique, CNRS, 91128 Palaiseau, France
f Stephenson Institute for Renewable Energy, University of Liverpool, Liverpool, L69 7ZF, United Kingdom

Аннотация: Методом молекулярно-пучковой эпитаксии на подложке GaAs(111)B синтезированы массивы нитевидных нанокристаллов GaAs : Be. Последовательное применение процессов фотолитографии, травления и металлизации позволило создать прототипы фотоэлектрических преобразователей, в которых выращенные массивы нитевидных нанокристаллов были использованы в качестве активных слоев. Исследование фотоэлектрических свойств полученных структур, проведенное с помощью эмулятора солнечного излучения, продемонстрировало, что эффективность преобразования солнечной энергии составляет порядка 0.1%. С учетом площади, занимаемой одиночным нитевидным нанокристаллом $p$-типа на поверхности подложки GaAs $n$-типа, пересчитанное значение эффективности преобразования достигает величины 1.1%.

Поступила в редакцию: 01.11.2012
Принята в печать: 08.11.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:6, 808–811

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025