RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 8, страницы 1094–1101 (Mi phts7993)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Исследование свойств солнечных элементов на основе $a$-Si : H-$p$$i$$n$-структур с помощью спектроскопии полной проводимости

А. С. Гудовскихa, А. С. Абрамовbc, А. В. Бобыльb, В. Н. Вербицкийb, К. С. Зеленцовa, Е. М. Ершенкоb, Д. А. Кудряшовa, С. А. Кудряшовa, А. О. Монастыренкоa, А. Р. Терраa, Е. И. Теруковbc

a Санкт-Петербургский академический университет — научно-образовательный центр нанотехнологий РАН (Академический университет)
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике, г. С.-Петербург

Аннотация: Проведены исследования свойств солнечных элементов на основе $a$-Si : H-$p$$i$$n$-структур с помощью метода спектроскопии полной проводимости. В спектрах полной проводимости выделены отклики плотности состояний в слоях $(i)a$-Si : H и находящихся в $p$-области структуры слоях $a$-SiС : H. Оценка величины плотности состояний в середине щели подвижности $(i)a$-Si : H дала значение 5 $\cdot$ 10$^{16}$$^{-3}$ $\cdot$ эВ$^{-1}$. Показано, что в процессе фотоиндуцированной деградации происходит рост этой величины до значений $\sim$ 10$^{17}$$^{-3}$ $\cdot$ эВ$^{-1}$. Для широкозонных слоев $a$-SiC : H наблюдавшийся отклик плотности состояний в хвостах валентной зоны позволил дать оценку нижней границы этой величины на уровне Ферми (10$^{18}$$^{-3}$ $\cdot$ эВ$^{-1}$) и определить его положение: на 0.4 эВ выше края валентной зоны. Предложенная методика может быть использована для оптимизации конструкции солнечных элементов с целью повышения их кпд.

Поступила в редакцию: 24.12.2012
Принята в печать: 10.01.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:8, 1090–1096

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025