RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 8, страницы 1137–1143 (Mi phts7999)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Влияние отжига в аргоне на свойства пленок оксида галлия, полученных термическим напылением

В. М. Калыгина, В. В. Вишникина, А. Н. Зарубин, В. А. Новиков, Ю. С. Петрова, О. П. Толбанов, А. В. Тяжев, С. Ю. Цупий, Т. М. Яскевич

Сибирский физико-технический институт им. акад. В. Д. Кузнецова при Томском государственном университете

Аннотация: Исследовано влияние температуры отжига на вольт-амперные, вольт-фарадные, вольт-сименсные характеристики и прозрачность пленок оксида галлия. Пленки получали термическим испарением порошка Ga$_2$O$_3$ с осаждением на пластины $n$-GaAs. Показано, что аморфные после напыления пленки кристаллизуются в результате отжига при температурах $T_{\mathrm{an}}\ge$ 800$^\circ$C. Электрические характеристики и фотоотклик образцов V/Ni–GaAs–Ga$_x$O$_y$–V/Ni при воздействии излучением видимого диапазона зависят от структуры и фазового состава пленок оксида галлия.

Поступила в редакцию: 20.12.2012
Принята в печать: 10.01.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:8, 1130–1136

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025