RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 10, страницы 1421–1424 (Mi phts8051)

Эта публикация цитируется в 15 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Оптические свойства пленок ITO, полученных высокочастотным магнетронным напылением с сопутствующей ионной обработкой

П. Н. Крылов, Р. М. Закирова, И. В. Федотова

Удмуртский государственный университет, 426034 Ижевск, Россия

Аннотация: Представлено изменение свойств пленок ITO (indium tin oxide), полученных методом реактивного высокочастотного напыления с одновременной ионной обработкой. Пленки ITO имеют в оптическом диапазоне 450–1100 нм пропускание 80%, ширину запрещенной зоны 3.50–3.60 эВ, показатель преломления 1.97–2.06. Все характеристики пленок зависят от тока ионной обработки. Ионная обработка в процессе напыления уменьшает удельное сопротивление пленок ITO, минимальное значение сопротивления составляет 2 $\cdot$ 10$^{-3}$ Ом $\cdot$ см. Обнаружена деградация пленок с высоким удельным сопротивлением при хранении на воздухе.

Поступила в редакцию: 28.01.2013
Принята в печать: 04.02.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:10, 1412–1415

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025