RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 12, страницы 1647–1652 (Mi phts8095)

Эта публикация цитируется в 9 статьях

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Исследование поляризаций нитридных соединений (Al,Ga,AlGa)N и зарядовой плотности различных интерфейсов на их основе

И. А. Супрядкинаab, К. К. Абгарянb, Д. И. Бажановab, И. В. Мутигуллинb

a Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
b Вычислительный центр им. А. А. Дородницына РАН, г. Москва

Аннотация: Представлены результаты теоретического исследования на основе расчетов из первых принципов поляризационных свойств полупроводников AlN, GaN и AlGaN со структурой вюрцита. Для данных нитридных соединений рассчитаны значения спонтанной, пьезоэлектрической поляризаций и пьезоэлектрических констант. В целях дальнейшего рассмотрения перспективных гетероструктур на основе соединений (Al,Ga,AlGa)N были оценены значения зарядовых плотностей на интерфейсах AlN/GaN, AlGaN/AlN, AlGaN/GaN и концентрация носителей на гетерогранице AlGaN/GaN, приведено сравнение с экспериментальными данными.

Поступила в редакцию: 29.10.2012
Принята в печать: 19.03.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:12, 1621–1625

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025