А. Л. Вихарев, А. М. Горбачев, М. П. Духновский, А. Б. Мучников, А. К. Ратникова, Ю. Ю. Федоров, “Комбинированные подложки из поли- и монокристаллического CVD-алмаза для алмазной электроники”, Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 2,страницы 274

Эта публикация цитируется в 12 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Комбинированные подложки из поли- и монокристаллического CVD-алмаза для алмазной электроники

А. Л. Вихарев^a, А. М. Горбачев^a, М. П. Духновский^b, А. Б. Мучников^a, А. К. Ратникова^b, Ю. Ю. Федоров^b

^a Институт прикладной физики РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия
^b Государственное научно-производственное предприятие "Исток", 141190 Фрязино, Россия

Аннотация: Представлены результаты исследований получения алмазных подложек, в которых моно- и поликристаллический CVD-алмаз образуют единую пластину, и эпитаксиального роста алмазных пленок на таких комбинированных подложках, содержащих участки поликристаллического и монокристаллического CVD-алмаза с ориентацией (100).

Поступила в редакцию: 04.07.2011
Принята в печать: 11.07.2011