RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 3, страницы 369–375 (Mi phts8179)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Фотолюминесцентное исследование структурной эволюции аморфных и кристаллических нанокластеров кремния при термическом отжиге слоев субоксида кремния различной стехиометрии

Д. М. Жигуновa, Н. В. Швыдунa, А. В. Емельяновa, В. Ю. Тимошенкоa, П. К. Кашкаровab, В. Н. Семиноговc

a Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
b Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г. Москва
c Институт проблем лазерных и информационных технологий РАН, г. Шатуpа Московской обл.

Аннотация: Методом фотолюминесценции изучено влияние стехиометрии тонких пленок субоксида кремния SiO$_x$ на процессы формирования и эволюции кремниевых нанокластеров при термическом отжиге. Образцы получены путем термического распыления мишени SiO в атмосфере кислорода с последующим осаждением слоя SiO$_x$ толщиной 500 нм на подложку из кремния. Морфология и размер кремниевых нанокластеров определялись путем анализа спектров и кинетики фотолюминесценции. Проведено сравнительное исследование люминесцентных свойств тонких слоев SiO$_x$ с параметрoм стехиометрии $x$ = 1.10, 1.29, 1.56 и 1.68, отожженных при различных температурах в диапазоне от 850 до 1200$^\circ$C. Изучено влияние температуры отжига, параметра стехиометрии исходной пленки субоксида кремния, а также размеров нанокластеров кремния на времена спада фотолюминесценции.

Поступила в редакцию: 17.08.2011
Принята в печать: 12.09.2011


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2012, 46:3, 354–359

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025