RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 8, страницы 1088–1093 (Mi phts8311)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Контакты Шоттки к высокоомным эпитаксиальным слоям GaAs для детекторов частиц и квантов

Г. И. Кольцовa, С. И. Диденкоa, А. В. Черныхa, С. В. Черныхa, А. П. Чубенкоb, Ю. Н. Свешниковc

a Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", 119049 Москва, Россия
b Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, 119991 Москва, Россия
c ЗАО "Элма Малахит" – ДО ОАО "Концерн «Энергомера»", 124460 Москва, Зеленоград, Россия

Аннотация: Исследованы электрофизические характеристики Ti- и Pt-контактов Шоттки к эпитаксиальным слоям $n$-GaAs с концентрацией носителей $<$ 10$^{12}$ см$^{-3}$ для детекторов частиц и квантов. Показано, что для расчета параметров контактов Шоттки на толстых высокоомных слабо компенсированных слоях GaAs предпочтительнее использовать диффузионную теорию переноса заряда. Рассчитанные высоты барьеров составили 0.84 и 0.87 эВ для Ti- и Pt-контактов соответственно. Изготовленные образцы поверхностно-барьерных детекторов показали линейный отклик в исследованном диапазоне энергий от 6 до 140 кэВ для $\gamma$-квантов и от 4 до 8 МэВ для $\alpha$-частиц, эффективность сбора заряда, близкую к 100%, и высокое энергетическое разрешение при комнатной температуре.

Поступила в редакцию: 20.12.2011
Принята в печать: 30.12.2011


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2012, 46:8, 1066–1071

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025