RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 9, страницы 1244–1247 (Mi phts8337)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Преобразование структуры SiC/por-SiC/TiO$_2$ в процессе быстрого термического отжига

Р. В. Конаковаa, А. Ф. Коломысa, О. С. Литвинa, О. Б. Охрименкоa, В. В. Стрельчукa, Л. Г. Линецb, А. В. Светличныйb

a Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева НАН Украины, 03028 Киев, Украина
b Таганрогский технологический институт Южного федерального университета (ТТИ ЮФУ), 347928 Таганрог, Россия

Аннотация: Проведены исследования морфологии поверхности, спектров комбинационного рассеяния света и фотолюминесценции структур SiC/por-SiC/TiO$_2$ до и после быстрой термической обработки. Показано, что быстрая термическая обработка приводит к появлению в спектрах комбинационного рассеяния полос, характерных для соединений углерода. Анализ спектров фотолюминесценции, возбуждаемой излучением с энергией, меньшей ширины запрещенной зоны в 6H-SiC, показал, что появление фотолюминесценции в пористом карбиде кремния связано с примесными состояниями, которые образуются на поверхности за счет продуктов химических реакций при травлении.

Поступила в редакцию: 27.02.2012
Принята в печать: 07.03.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2012, 46:9, 1221–1224

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025