RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Физика и техника полупроводников
// Архив
Физика и техника полупроводников,
1986
, том 20,
выпуск 2,
страницы
381–383
(Mi phts91)
Краткие сообщения
Низкопороговые (
${j_{\text{п}}= 230\,\text{А/см}^{2}}$
,
${T=300}$
K) AlGaAs ДГС РО лазеры, полученные методом жидкофазной эпитаксии
Ж. И. Алфёров
a
,
В. М. Андреев
a
,
А. А. Воднев
a
,
О. О. Ивентьева
a
,
В. Р. Ларионов
a
,
В. Д. Румянцев
a
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, г. Ленинград
УДК:
621.315.592
Поступила в редакцию:
13.07.1985
Принята в печать:
02.10.1985
Полный текст:
PDF файл (414 kB)
©
МИАН
, 2024