RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1986, том 20, выпуск 2, страницы 381–383 (Mi phts91)

Краткие сообщения

Низкопороговые (${j_{\text{п}}= 230\,\text{А/см}^{2}}$, ${T=300}$ K) AlGaAs ДГС РО лазеры, полученные методом жидкофазной эпитаксии

Ж. И. Алфёровa, В. М. Андреевa, А. А. Водневa, О. О. Ивентьеваa, В. Р. Ларионовa, В. Д. Румянцев

a Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, г. Ленинград

УДК: 621.315.592

Поступила в редакцию: 13.07.1985
Принята в печать: 02.10.1985



© МИАН, 2024