Аннотация:
На основании данных об энергетических спектрах собственных
межузельных атомов ($I$) и вакансий ($V$) в германии предложена модель
процессов взаимодействия $I$ и $V$ между собой и с имеющимися в кристалле
атомами примесей. Исследованы процессы, определяющие времена жизни
$\tau_{I}$ и $\tau_{V}$ в условиях электронного и гамма-облучения
при различных температурах. Сделаны оценки времени жизни $I$ и
$V$ в диапазоне гелиевых и азотных температур и получены зависимости этих
величин от концентрации атомов легирующей примеси
V группы и от интенсивности облучения при ${T\sim300}$ K. Установлено, что приобретение вакансией способности мигрировать
при достаточно высоких температурах коренным образом изменяет процесс
дефектообразования. Дано объяснение экспериментальной зависимости скорости
образования устойчивых при 300 K дефектов (включающих атом примеси) от при
заданной интенсивности облучения, получено совпадение расчетных и
экспериментальных зависимостей ($dN_{D}/dt)\,(N_{D})$. Установлено, что
для германия с любой заданной концентрацией $N_{D}$ существует диапазон
интенсивностей, в котором сечение образования устойчивых при 300 K дефектов,
включающих примесный атом V группы, сильно зависит от интенсивности облучения.