RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1987, том 21, выпуск 12, страницы 2201–2209 (Mi phts993)

Механизм «очистки» арсенида галлия висмутом

Ю. Ф. Бирюлин, В. В. Воробьева, В. Г. Голубев, Л. В. Голубев, В. И. Иванов-Омский, С. В. Новиков, А. В. Осутин, И. Г. Савельев, В. В. Чалдышев, Ю. В. Шмарцев, О. В. Ярошевич


Аннотация: Проведен комплексный анализ электрофизических параметров, фотолюминесценции, субмиллиметровой фотопроводимости в магнитном поле в связи с различными конкретными условиями кристаллизации эпитаксиальных слоев арсенида галлия, выращенных методом жидкофазной эпитаксии из растворов-расплавов в галлии, висмуте и смешанных. Предложена модель процесса «очистки» арсенида галлия висмутом.



© МИАН, 2024