RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Письма в Журнал технической физики
// Архив
Письма в ЖТФ,
1988
, том 14,
выпуск 14,
страницы
1330–1335
(Mi pjtf2215)
Динамика экранирования электрического поля в фоторефрактивных кристаллах Bi
$_{12}$
SiO
$_{20}$
В. Н. Астратов
,
А. В. Ильинский
,
А. С. Фурман
Полный текст:
PDF файл (526 kB)
Реферативные базы данных:
©
МИАН
, 2024