RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 1988, том 14, выпуск 14, страницы 1330–1335 (Mi pjtf2215)

Динамика экранирования электрического поля в фоторефрактивных кристаллах Bi$_{12}$SiO$_{20}$

В. Н. Астратов, А. В. Ильинский, А. С. Фурман




Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024