RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Письма в Журнал технической физики
// Архив
Письма в ЖТФ,
1989
, том 15,
выпуск 15,
страницы
76–79
(Mi pjtf2815)
Экспериментальное и численное исследование выращивания эпитаксиальных слоев GaAs и твердого раствора AlGaAs в горизонтальном реакторе при пониженном давлении
А. И. Жмакин
,
Л. А. Кадинский
, И. А. Кузьмин
,
Ю. Н. Макаров
, Е. А. Субашиева
,
Б. С. Явич
Полный текст:
PDF файл (371 kB)
Реферативные базы данных:
©
МИАН
, 2024