RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 1989, том 15, выпуск 15, страницы 76–79 (Mi pjtf2815)

Экспериментальное и численное исследование выращивания эпитаксиальных слоев GaAs и твердого раствора AlGaAs в горизонтальном реакторе при пониженном давлении

А. И. Жмакин, Л. А. Кадинский, И. А. Кузьмин, Ю. Н. Макаров, Е. А. Субашиева, Б. С. Явич




Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024